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ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的研發(fā)投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。 可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。 全自動變角、對焦技術，一鍵快速測量； 向導交互式人機界面，便捷的軟件操作體驗； 豐富的材料數據庫與算法模型庫，強大的

教學橢偏儀,Mapping系列光譜橢偏儀是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，配置全自動Mapping運動機構，通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片的膜厚及光學參數自定義繪制化測量表征。

橢偏儀廠家的SE-VM光譜橢偏儀是一款高精度快速測量光譜橢偏儀,可實現科研/企業(yè)級高精度快速光譜橢偏測量，支持多角度、微光斑、可視化調平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，支持多功能模塊定制化設計。

國產橢偏儀,SE-VE光譜橢偏儀是一款高性價比快速測量光譜橢偏儀,緊湊集成化設計，操作簡便，一鍵快速測量和向導交互式人機界面，具有豐富的材料數據庫和算法模型庫、強大的數據分析能力。

針對微區(qū)圖形結構測量定制的專用型光譜橢偏儀